強化処理の際、残留する熱応力は単なる変形だけでなく、後に問題となるスクラップや再加工、破損などとして現れます。もし応力を除去する領域で安定した均一な温度を保つことができなければ、工程を効率的に進めることはできません。だからこそ、私たちは、ガラスが必要とする応力を緩和しつつ、過度な加熱やエネルギーの無駄遣いを防ぐような加熱システムを開発しました。
重要なのは内部の仕組みです
私たちは、ガラスの吸収特性に合わせて中波赤外線放射体を使用しています。これにより、エネルギーが迅速かつ直接的に伝わり、対流による影響が最小限に抑えられます。その結果、表面全体に均一な熱分布が得られ、端部と中心部の温度差による不均一な応力が生じることがありません。実際、アニーリングや応力除去の際に、長時間の加熱を行わずに、より正確な制御が可能になります。これらの装置は高出力の産業用として設計されており、クォーツ部品や取り付け構造によって、連続生産時でも均一な熱分布が保たれます。
応力除去は、熱が供給され続ける限り繰り返されます。このモジュールにより温度プロファイルが安定し、強化処理後の平面性や光学品質が予測可能になります。つまり、不良品が減り、再加工が少なくなり、生産効率が向上します。また、システムが所定の温度に迅速に到達し、それを維持できるため、特に高出力の加熱領域ではエネルギーの消費が削減されます。さらに、既存のラインにも簡単に組み込むことができるため、切り替えにかかる時間も短縮されます。
実用的な点としては、ターゲットエリアが直接加熱できるように設定され、放射体の配置がガラスの形状に合っている場合に性能が最も良くなります。均一性を保つためには、スペースや向きも重要です。そのため、何かを固定する前に、事前にレイアウトを考えておく必要があります。また、厚手の製品やコーティングされた製品の場合、放射率が変わるため、望みの応力プロファイルを得るためには、出力密度を少し調整する必要があります。